用于气体气相沉积的负载膜暗盒专利登记公告

专利名称：用于气体气相沉积的负载膜暗盒

摘要：本发明公开了在气体气相沉积期间用于支撑膜的暗盒，所述暗盒具有第一端板和第二端板。每个端板上的肋均形成螺旋凹槽，所述螺旋凹槽沿边缘接纳具有大于300mm宽度的螺旋膜缠绕。膜缠绕的圈之间的空间限定气体流导槽，并且肋的相邻圈之间的空间在一个端板中限定多个与所述导槽连通的入口开口。每个肋均具有预定宽度尺寸、预定平均厚度尺寸、以及至少2∶1的宽度-厚度纵横比。端板之间的间距为至少三百毫米(300mm)并且也大于膜基质在气体沉积温度下的宽度尺寸。每个肋的宽度尺寸均介于端板间距的约0.5％至约2.0％之间。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080049087.1

专利申请（专利权）人：纳幕尔杜邦公司

专利发明（设计）人：P·F·卡西亚;C·埃斯特拉达;R·D·基纳德;R·S·麦克利恩;K·H·施尔基图斯

主权项：用于气体气相沉积方法的膜暗盒，所述暗盒包括：中心轴，所述中心轴具有从其中穿过的轴线；第一端板和第二端板，每个端板均被安装到所述轴上，每个端板均包括中心毂，从所述中心毂辐射出多个以角度间隔的轮辐，所述每个端板的轮辐均具有内表面，所述内表面位于被取向成基本上垂直于所述轴的轴线的基准平面上，每个端板均具有安装到其所述内表面上的螺旋肋，每个螺旋肋均具有预定数目的均匀间隔的圈和与其相关联的预定节距，所述螺旋肋的相邻圈之间的空间限定每个端板上的螺旋凹槽；膜基质，所述膜基质在其上具有第一边缘和第二边缘并且具有大于三百毫

专利地区：美国