磁记录介质和磁记录再生装置专利登记公告

专利名称：磁记录介质和磁记录再生装置

摘要：本发明的垂直磁记录介质，是在非磁性基板上至少依次层叠衬里层、基底层、中间层和垂直磁记录层而成的垂直磁记录介质，所述衬里层包含具有非晶结构的软磁性膜，所述基底层包含含有Co和Fe的任一者或两者的NiW合金，该NiW合金中的W的含量为3～10原子％，该NiW合金中的Co和Fe的含量的合计为5原子％以上且低于40原子％，该NiW合金的饱和磁通密度Bs为280emu/cm3以上，该基底层的厚度为2～20nm，所述中间层含有Ru或Ru合金。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080046813.4

专利申请（专利权）人：昭和电工株式会社

专利发明（设计）人：田中贵士

主权项：一种垂直磁记录介质，是在非磁性基板上至少依次层叠衬里层、基底层、中间层和垂直磁记录层而成的垂直磁记录介质，其中，所述衬里层包含具有非晶结构的软磁性膜，所述基底层包含含有Co和Fe的任一者或两者的NiW合金，该NiW合金中的W的含量为3～10原子％，该NiW合金中的Co和Fe的含量的合计为5原子％以上且低于40原子％，该NiW合金的饱和磁通密度Bs为280emu/cm3以上，该基底层的厚度为2～20nm，所述中间层含有Ru或Ru合金。

专利地区：日本