磁记录介质的制造方法和磁记录再生装置专利登记公告

专利名称：磁记录介质的制造方法和磁记录再生装置

摘要：本发明提供一种磁记录介质的制造方法，该方法能够以高的生产率制造表面平滑度高、磁头浮起特性优异的有用的磁记录介质。这样的磁记录介质的制造方法，是在非磁性基板(1)上形成磁性层(3)后，通过对磁性层(3)部分地注入离子，将该磁性层(3)的注入了离子的部位的磁特性改性，从而形成磁性分离了的磁记录图案(3a)的磁记录介质(30)的制造方法，其特征在于，在对磁性层(3)部分地注入离子时，在磁性层(3)的表面形成碳膜，通过图案化将碳膜的厚度部分地减薄后，通过减薄了该碳膜的部位对磁性层(3)部分地注入离子。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080045934.7

专利申请（专利权）人：昭和电工株式会社

专利发明（设计）人：福岛正人

主权项：一种磁记录介质的制造方法，是在非磁性基板上形成磁性层后，通过对所述磁性层部分地注入离子，将该磁性层的注入了离子的部位的磁特性改性，从而形成磁性分离了的磁记录图案的磁记录介质的制造方法，其特征在于，在对所述磁性层部分地注入离子时，在所述磁性层的表面形成碳膜，通过图案化将所述碳膜的厚度部分地减薄后，通过减薄了该碳膜的部位对所述磁性层部分地注入离子。

专利地区：日本