使用铜类纳米颗粒高浓度分散液的导体膜及其制造方法专利登记公告
专利名称:使用铜类纳米颗粒高浓度分散液的导体膜及其制造方法
摘要:本发明提供通过短时间且低温处理得到的低电阻的导体膜及其制造方法。该制造方法包括:制备以Cu2O为主成分的铜类纳米颗粒的高浓度分散液的步骤Sa1;在基材上涂布上述高浓度分散液并干燥,得到以Cu2O为主成分的涂膜的步骤Sa2;在大气压中以200℃以下的温度对上述涂膜进行加热的步骤Sa3-1;和在还原性气氛中以250℃以下的温度对上述涂膜进行加热的步骤Sa3-2。
专利类型:发明专利
专利号:CN201080047495.3
专利申请(专利权)人:国立大学法人京都大学;福田金属箔粉工业株式会社
专利发明(设计)人:川崎三津夫;和田仁;杉本将之;梶田治
主权项:一种导体膜的制造方法,其特征在于,包括:制备以Cu2O为主成分的铜类纳米颗粒的高浓度分散液的步骤Sa1;在基材上涂布所述高浓度分散液并干燥,得到以Cu2O为主成分的涂膜的步骤Sa2;在大气压中以200℃以下的温度对所述涂膜进行加热的步骤Sa3?1;和在还原性气氛中以200℃以下的温度对所述涂膜进行加热的步骤Sa3?2。
专利地区:日本
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目,不代表该专利由我公司代理取得,上述专利权利属于专利权人,未经(专利权人)许可,擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利,请搜索专利权人联系方式,获得专利权人的授权许可。