用于源和掩模优化的图案选择方法专利登记公告

专利名称：用于源和掩模优化的图案选择方法

摘要：本发明涉及从设计选择图案子组的方法、执行源和掩模优化的方法以及用于执行从设计选择图案子组的方法的计算机程序产品图案子组。根据具体方面，本发明允许覆盖全部设计的同时，通过智能地从设计中选择图案子组降低计算成本，其中设计或设计的修正被配置成通过光刻过程被成像到衬底上。该从设计选择图案子组的方法包括从设计识别与该设计的预定表示相关的图案组。通过根据该方法选择图案子组，所选定的图案子组构成作为该图案组的所述设计的类似的预定表示。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080048248.5

专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司

专利发明（设计）人：刘华玉;李江伟;李志潘;陈洪;陈洛祁;张幼平;叶军;蔡明村;陆颜文

主权项：一种选择与设计相关的图案子组的方法，其中设计或设计的修正被配置成通过光刻过程成像到衬底上，其中图案子组构成所述设计的预定表示，所述方法包括下列步骤：识别与所述设计的预定表示相关的图案组，将所述图案组分组和/或分类，限定与所述分组和/或分类相关的阈值，和从所述图案组中选择图案子组，其中所述图案子组包括来自所述图案组中的高于或低于所述阈值的图案。

专利地区：荷兰