焦点测试光罩、焦点测量方法、曝光装置、及曝光方法专利登记公告

专利名称：焦点测试光罩、焦点测量方法、曝光装置、及曝光方法

摘要：用以测量焦点资讯的焦点测试标线片具有外侧图案，外侧图案具有由延伸于Y方向的遮光膜构成的线图案，设于线图案的+X方向侧、线宽形成为较线图案狭窄的相位偏移部，设于线图案的-X方向侧、线宽形成为较线图案狭窄的透射部，设于相位偏移部的+X方向侧的透射部，设于透射部的-X方向侧的相位偏移部。能以高测量再现性且高测量效率测量投影光学系统的焦点资讯。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080049094.1

专利申请（专利权）人：株式会社尼康

专利发明（设计）人：蛭川茂;近藤信二郎

主权项：一种焦点测试光罩，是设有通过投影光学系统投影至物体上的测试图案，其特征在于：该测试图案，具有：第1遮光部，线状延伸于第1方向并遮蔽光；第1相位偏移部，在与该第1方向正交的第2方向设于该第1遮光部的一侧，线状延伸于该第1方向且在该第2方向的线宽形成为较该第1遮光部的线宽狭窄，使透射过的该光的相位变化；第1透射部，在该第2方向设于该第1遮光部的另一侧，线状延伸于该第1方向且在该第2方向的线宽形成为较该第1遮光部的线宽狭窄，使该光透射过；以及第2相位偏移部，在该第2方向设于该第1透射部的与该第1遮光部相反侧，在

专利地区：日本