带电粒子多子射束光刻系统、调节装置及其制造方法专利登记公告

专利名称：带电粒子多子射束光刻系统、调节装置及其制造方法

摘要：本发明涉及一种用于带电粒子多子射束光刻系统中的调节装置。该装置包括包含互连结构(100)的本体，该互连结构设置有多个调节器及在所述互连结构内的不同层次处的互连，所述互连用于实现所述调节器与一个或多个图案数据接收组件的连接。一个调节器包括第一电极(132)，第二电极(134)，及延伸通过所述本体的孔(135)。所述电极位于所述孔的相对侧上以用于横越所述孔产生电场。所述第一电极和所述第二电极中的至少一个包括形成于所述互连结构的第一层次处的第一导电组件(110)，和形成于所述互连结构的第二层次处的第二导电组件(

专利类型：发明专利

专利号：CN201080048345.4

专利申请（专利权）人：迈普尔平版印刷IP有限公司

专利发明（设计）人：M.J-J.威兰;F.M.波斯特马

主权项：一种用于带电粒子多子射束光刻系统中的调节装置，所述装置包括包含互连结构的本体，该互连结构设置有多个调节器及在所述互连结构内的不同层次处的互连，所述互连用于实现所述调节器与一个或多个图案数据接收组件的连接；其中一个调节器包括第一电极、第二电极，及延伸通过所述本体的孔，所述电极位于所述孔的相对侧上以用于横越所述孔产生电场；且其中所述第一电极和所述第二电极中的至少一个包括形成于所述互连结构的第一层次处的第一导电组件，和形成于所述互连结构的第二层次处的第二导电组件，所述第一导电组件与所述第二导电组件彼此电连接。

专利地区：荷兰