透明导电膜的制造方法及透明导电膜、使用该透明导电膜的元件、透明导电基板以及使用该透明导电基板的器件专利登记公告

专利名称：透明导电膜的制造方法及透明导电膜、使用该透明导电膜的元件、透明导电基板以及使用该透明导电基板的器件

摘要：本发明提供透明导电膜及其制造方法，所述透明导电膜使用作为透明导电膜的制造方法的涂布法，且通过低于300℃的低温加热，具有优异的透明性、导电性、膜强度、电阻稳定性。所述透明导电膜的制造方法包含：通过在基板上形成含有有机金属化合物的涂布膜的涂布工序、该涂布膜的干燥工序、由干燥涂布膜形成无机膜的加热能量线照射工序、对该无机膜进行等离子体处理的等离子体处理工序；加热能量线照射工序为在含氧气氛下一边加热至低于300℃一边进行能量线照射来形成无机膜的工序，等离子体处理工序为将该无机膜在非氧化性气体气氛下且在低于300

专利类型：发明专利

专利号：CN201080049929.3

专利申请（专利权）人：住友金属矿山株式会社

专利发明（设计）人：行延雅也;村山勇树;永野崇仁;大塚良广

主权项：透明导电膜的制造方法，其为经由以下各工序而形成的透明导电膜的制造方法，其中所述各工序分别为：将含有有机金属化合物作为主要成分的透明导电膜形成用涂布液涂布在基板上而形成涂布膜的涂布工序；将所述涂布膜进行干燥而形成干燥涂布膜的干燥工序；对所述干燥涂布膜一边进行加热一边照射能量线而形成以金属氧化物即无机成分作为主要成分的无机膜的加热能量线照射工序；对所述无机膜进行等离子体处理来进一步促进膜的无机化或者结晶化的等离子体处理工序，其特征在于，所述加热能量线照射工序为如下工序：将所述干燥工序中形成的以有机金属化合物作

专利地区：日本