带反射层的EUV光刻用衬底、EUV光刻用反射型掩模坯料、EUV光刻用反射型掩模、和该带反射层的衬底的制造方法专利登记公告

专利名称：带反射层的EUV光刻用衬底、EUV光刻用反射型掩模坯料、EUV光刻用反射型掩模、和该带反射层的衬底的制造方法

摘要：本发明提供抑制了由自钌（Ru）保护层的氧化导致的反射率降低的EUV掩模坯料、和该EUV掩模坯料的制造中使用的带反射层的衬底、以及该带反射层的衬底的制造方法。一种带反射层的EUV光刻用衬底，其特征在于，其在衬底上依次形成有用于反射EUV光的反射层和用于保护该反射层的保护层，前述反射层为Mo/Si多层反射膜，前述保护层为Ru层或Ru化合物层，在前述反射层与前述保护层之间形成有含有0.5~25at%的氮且含有75~99.5at%的Si的中间层。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080056266.8

专利申请（专利权）人：旭硝子株式会社

专利发明（设计）人：三上正树;驹木根光彦;生田顺亮

主权项：一种带反射层的EUV光刻用衬底，其特征在于，其在衬底上依次形成有用于反射EUV光的反射层和用于保护该反射层的保护层，所述反射层为Mo/Si多层反射膜，所述保护层为Ru层或Ru化合物层，在所述反射层与所述保护层之间形成有含有0.5~25at%的氮且含有75~99.5at%的Si的中间层。

专利地区：日本