用于为制造微结构的激光设备制造掩膜的方法和装置专利登记公告

专利名称：用于为制造微结构的激光设备制造掩膜的方法和装置

摘要：在根据掩膜投影技术用于在固体表面上产生微结构的激光设备的掩膜和/或光阑的方法中，散射激光射线的预定的不透明表面部分通过借助飞秒、皮秒或氟石激光射束而粗糙化并修改掩膜和/或光阑基板而在其中产生。这种掩膜和光阑具有明显提高的寿命和精确度，并且可以例如用于产生闪耀光栅，该闪耀光栅布置在固体表面上的衍射光栅阵列中，用于产生高光辉的光谱颜色和混合色。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080057395.9

专利申请（专利权）人：伯格利-格拉维瑞斯股份有限公司

专利发明（设计）人：C·伯格利;S·威斯曼特尔;G·雷瑟;A·恩格尔;R·伯特彻;W·斯蒂芬

主权项：一种用于产生掩膜和/或光阑的方法，所述掩膜和/或光阑用于在固体表面上产生微结构的激光设备，其中对激光射线不透明的所述掩膜和/或光阑的区域散射入射激光射线，其特征在于散射所述激光射线的区域通过以飞秒、皮秒或氟石激光射束的照射而被粗糙化和修改。

专利地区：瑞士