利用结构化光学元件和聚焦光束的激光刻图专利登记公告

专利名称：利用结构化光学元件和聚焦光束的激光刻图

摘要：本发明中不同的实施例提供了利用结构化光学元件和聚焦光束的激光刻图。在一些实施例中，结构化光学元件可被一体形成在单个基片上。在一些实施例中，多个光学部件可被组合在光学路径中以提供希望的图案。在至少一个实施例中，结合投影掩膜的受控运动、物体的受控运动和激光束的受控运动，投影掩膜被用于控制物体对激光输出的曝光。在一些实施例中，投影掩膜被用于控制物体的曝光，并且投影掩膜可吸收、散射、反射或衰减激光输出。在一些实施例中，投影掩膜可包括光学元件，所述光学元件在投影掩膜的区域上改变光功率和传输激光束的偏振。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080056720.X

专利申请（专利权）人：IMRA美国公司

专利发明（设计）人：A·Y·新井;吉野郁世

主权项：一种基于激光的系统，所述系统用于将激光能量传送至物体的至少一部分，所述系统包括：激光源，所述激光源提供输入光束；光束定位器，所述光束定位器接收所述输入光束并且产生移动激光束；结构化光学元件，所述结构化光学元件被设置在所述激光源和所述物体之间，所述结构化光学元件被设置成接收所述移动光束并且可控制地照射所述物体的选定部分，所述结构化光学元件的一部分被设置成在所述物体上或物体内形成辐照的图案，并且所述结构化光学元件的一部分被设置成基本上阻止激光能量到达所述物体并且避免在所述光束相对于所述靶加速和/或减速的过程中

专利地区：美国