光掩模专利登记公告

专利名称：光掩模

摘要：本发明提供一种光掩模，具有：在透明基板(4)的下表面(4a)形成有规定形状的多个掩模图案(5)的掩模基板(2)；在另一透明基板(9)的下表面(9a)形成有将多个掩模图案(5)的像缩小投影在被对置配置的被曝光体上的多个投影透镜(10)，且在上表面(9b)以使光轴与投影透镜(10)的光轴一致的方式形成有将入射光聚光于投影透镜(10)的多个向场透镜(11)的微型透镜阵列(3)，以使掩模图案(5)与向场透镜(11)具有规定间隙且处于接近对置的状态的方式来接合掩模基板(2)与微型透镜阵列(3)。由此，能够提高照射于

专利类型：发明专利

专利号：CN201080057974.3

专利申请（专利权）人：株式会社V技术

专利发明（设计）人：水村通伸;畑中诚

主权项：一种光掩模，其特征在于，具有：掩模基板，其在透明基板的一表面形成有规定形状的多个掩模图案；微型透镜阵列，其在另一透明基板的一表面形成有将所述多个掩模图案的像缩小投影在被对置配置的被曝光体上的多个投影透镜，并在另一透明基板的另一表面以使光轴与所述投影透镜的光轴一致的方式形成有将入射光聚光于所述投影透镜的多个向场透镜，以使所述掩模图案与所述向场透镜具有规定间隙且处于接近对置的状态的方式来接合所述掩模基板与所述微型透镜阵列。

专利地区：日本