曝光方法及曝光装置专利登记公告

专利名称：曝光方法及曝光装置

摘要：本发明提供一种曝光方法及曝光装置，即使在基板搬运方向上错位变大的情况下，也能够制作无缺陷的彩色滤光片。本发明的曝光方法中，将光掩膜102及涂布有光阻剂的基板202配置成与重复进行开灯及熄灯的闪亮式光源相对。一边沿与设置于光掩膜102的开口112的排列方向正交的方向连续地搬运基板202，一边使闪亮式光源闪亮，间歇地进行多次曝光。对基板202的搬运速度进行控制，以在每次曝光时，使光掩膜102的各个开口112与上一次的各个曝光图案122的一部分重叠，从而形成在基板202的搬运方向上延伸的条纹状着色层802。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080058986.8

专利申请（专利权）人：凸版印刷株式会社

专利发明（设计）人：松井浩平;八田薰

主权项：一种曝光方法，一边沿第一方向搬运形成有格子状的遮光层的基板，一边在上述基板上形成用于构成彩色滤光片的着色像素，该曝光方法中，将具有多个开口的光掩膜和涂布有光阻剂的基板配置成与重复进行开灯及熄灯的闪亮式光源相对；一边沿上述第一方向连续地搬运上述基板，一边使上述闪亮式光源闪亮，间歇地进行多次曝光；每次曝光时，使上述光掩膜沿与上述第一方向正交的第二方向移动，从而进行上述光掩膜与上述基板之间的对位；对上述闪亮式光源的闪亮间隔进行控制，以在每次曝光时，使上述光掩膜的上述多个开口的一部分与、上一次曝光时通过上述光掩膜

专利地区：日本