调节装置及使用其的带电粒子多射束光刻系统专利登记公告

专利名称：调节装置及使用其的带电粒子多射束光刻系统

摘要：本发明涉及一种带电粒子多射束光刻系统，用来使用多个带电粒子射束将图案传送到目标表面上。该系统包括波束产生器（3）、射束阻断器阵列（9）、屏蔽结构（111）与投射系统。波束产生器布置成产生多个带电粒子射束。射束阻断器阵列被布置成根据图案来图案化多个射束。射束阻断器阵列包含多个调节器（101）和多个光敏元件（107），光敏元件被布置成接收图案数据承载光束并将光束转换成电信号。光敏元件被电连接到一个或更多个调节器，以提供所接收的图案数据。屏蔽结构（111）由导电材料制成，为调节器基本上屏蔽掉在光敏元件附近产生的

专利类型：发明专利

专利号：CN201080059452.7

专利申请（专利权）人：迈普尔平版印刷IP有限公司

专利发明（设计）人：M.J-J.维兰德;R.贾格尔;A.H.V.范维恩;S.W.H.K.斯蒂恩布林克

主权项：一种使用多个带电粒子射束将图案传送到目标表面上的带电粒子多射束光刻系统，所述系统包含：?波束产生器，用于产生多个带电粒子射束；?射束阻断器阵列，用于根据图案来图案化所述多个射束；其中所述射束阻断器阵列包含多个调节器和多个光敏元件，所述光敏元件被布置成接收图案数据承载光束并将所述光束转换成电信号，所述光敏元件被电连接到一个或更多个调节器，用于向所述一个或更多个调节器提供所接收的图案数据；?导电材料的屏蔽结构，用于基本上屏蔽在所述光敏元件附近产生的电场，与所述调节器隔开，其中所述屏蔽结构被布置成被设定在预定电

专利地区：荷兰