具有调节装置的带电粒子多射束光刻系统专利登记公告

专利名称：具有调节装置的带电粒子多射束光刻系统

摘要：一种用于将图案传送到目标表面上的带电粒子光刻系统。该系统包括：用于生成多个带电粒子射束的波束产生器（3）、定义柱体的多个射束、具有用于阻挡射束到达目标表面的表面和在表面中的用于允许射束到达目标表面的孔隙阵列的波束停止阵列（10），以及，用于调节射束，以通过使射束偏转或不偏转使得射束被或不被波束停止阵列阻挡，来阻止一个或更多射束到达目标表面或允许一个或更多射束到达目标表面的调节装置（9）。调节装置包括：布置成阵列的用于让射束通过调节装置的多个孔隙、布置成阵列的多个调节器（30），每个调节器配备有在孔隙的相对

专利类型：发明专利

专利号：CN201080059454.6

专利申请（专利权）人：迈普尔平版印刷IP有限公司

专利发明（设计）人：M.J-J.维兰德;R.贾格尔;A.H.V.范维恩;S.W.H.K.斯蒂恩布林克

主权项：一种用于将图案传送到目标表面上的带电粒子光刻系统，包括：用于生成多个带电粒子射束的波束产生器，所述多个射束定义柱体；波束停止阵列，具有用于阻挡射束到达所述目标表面的表面，以及在所述表面中用于允许所述射束到达所述目标表面的孔隙阵列；以及调节装置，用于调节所述射束，通过使所述射束偏转或不偏转，使得所述射束被或不被所述波束停止阵列阻挡，以阻止所述射束中的一个或多个到达所述目标表面，或者允许所述射束中的一个或多个到达所述目标表面，所述调节装置包括：被布置成阵列的多个孔隙，用于让所述射束通过所述调节装置；被布置成阵

专利地区：荷兰