成膜装置以及成膜方法专利登记公告

专利名称：成膜装置以及成膜方法

摘要：提供一种能够与基板的大型化相对应，并且生产节拍短、低成本的成膜装置以及成膜方法。将放置基板（11）的基板保持框（12）运入真空排气后的真空槽（41）内，使基板保持框（12）上的基板（11）在与配置在基板运送路径和蒸镀源（42）的排放口（42c）之间的掩模保持框（43）上的掩模（15）相面对的位置静止，使基板保持框（12）离开运送机构（51）的运送部件，使基板（11）的背面静电吸附在基板吸附板（81b）表面上而保持。接着，使掩模（15）相对于基板（11）对位，在使基板（11）与掩模（15）均相对于真空槽（4

专利类型：发明专利

专利号：CN201080059579.9

专利申请（专利权）人：株式会社爱发科

专利发明（设计）人：深尾万里;菊地博

主权项：?一种成膜装置，具有：成膜室，放置基板的基板保持框，能够从朝向上述基板方向的排放口向上述成膜室内排放成膜材料的蒸气的蒸镀源，以及使上述基板保持框沿着上述成膜室内通过与上述排放口对向的位置的基板运送路径移动的移动机构，通过上述蒸气在上述基板表面上进行成膜，其特征在于，还具有：配置在上述基板运送路径与上述排放口之间、放置具有多个贯通孔的掩模的掩模保持框，和使上述掩模保持框上的上述掩模相对于与上述掩模相面对的上述基板对位的对位装置，将放置上述基板的上述基板保持框运入上述成膜室内，并使其在与上述掩模保持框上的上述

专利地区：日本