底部具有气体分配系统的反应器专利登记公告

专利名称：底部具有气体分配系统的反应器

摘要：本发明涉及一种用于进行放热工艺的反应器（1），包括：反应器壳（2），用于将反应物和冷却剂引入反应器壳（2）的入口（3，7），用于从反应器壳（2）排出产品和冷却剂的出口（4，8），至少两个反应器管（9），冷却剂室（6），和冷却剂室（6）下方的气体分配系统（11），其中至少两个反应器管（9）延伸穿过冷却剂室（6），使得在冷却剂室（6）下方的空间（15）与冷却剂室（6）上方的空间（13）之间流体相通，所述反应器（1）包括一种或多种高度多孔催化剂，所述催化剂具有至少1mm的尺寸并且包含多孔体和催化剂材料，其中多孔

专利类型：发明专利

专利号：CN201080059666.4

专利申请（专利权）人：国际壳牌研究有限公司

专利发明（设计）人：F·J·M·施劳温

主权项：一种用于进行放热工艺的反应器（1），包括：反应器壳（2），用于将反应物和冷却剂引入反应器壳（2）的入口（3，7），用于从反应器壳（2）排出产品和冷却剂的出口（4，8），至少两个反应器管（9），冷却剂室（6），和冷却剂室（6）下方的气体分配系统（11），其中至少两个反应器管（9）延伸穿过冷却剂室（6），使得在冷却剂室（6）下方的空间（15）与冷却剂室（6）上方的空间（13）之间流体相通，所述反应器（1）包括一种或多种高度多孔催化剂，所述催化剂具有至少1mm的尺寸并且包含多孔体和催化剂材料，其中多孔体具有50

专利地区：荷兰