钌络合物混合物、其制造方法、成膜用组合物、含钌膜及其制造方法专利登记公告

专利名称：钌络合物混合物、其制造方法、成膜用组合物、含钌膜及其制造方法

摘要：为了利用CVD法形成优质的钌薄膜，需要在低温下形成薄膜，因此期望提供一种相对于热具有高反应性的钌化合物。为此，本发明涉及使用下述钌络合物混合物作为原料、利用CVD法等制造含钌膜的方法等，所述钌络合物混合物含有：(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌和相对于(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌为0.1~100重量%的双(2,4-二甲基戊二烯基)合钌。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080059677.2

专利申请（专利权）人：东曹株式会社

专利发明（设计）人：摩庭笃;大岛宪昭;河野和久;古川泰志;千叶洋一;山本俊树

主权项：一种钌络合物混合物，其含有：(2,4?二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌、及相对于(2,4?二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌为0.1~100重量%的双(2,4?二甲基戊二烯基)合钌。

专利地区：日本