发光二极管光学反射结构专利登记公告

专利名称：发光二极管光学反射结构

摘要：一种发光二极管光学反射结构，其包含基板；电性连接于基板上的发光二极管；结合于基板上且位于发光二极管周缘的反射框架(Reflector)，该反射框架包含有一载体以及涂布于载体内侧并对应发光二极管的反射层；填充于反射框架中且封闭该发光二极管的荧光层。藉此，可利用荧光层与反射层的配合，以增加反射框架使用时的光学稳定度，而达到易于制作、不易变色、发光效率佳以及降低制作成本的功效。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110002232.7

专利申请（专利权）人：钰桥半导体股份有限公司

专利发明（设计）人：王家忠

主权项：?一种发光二极管光学反射结构，包括基板、发光二极管、反射框架、及荧光层，其特征在于：所述发光二极管电性连接于基板上；该反射框架结合于基板上且位于发光二极管的周缘，而该反射框架包含载体、以及至少涂部于载体内侧并对应发光二极管的反射层；该荧光层填充于反射框架中且封闭该发光二极管。

专利地区：台湾