镀膜件及其制备方法专利登记公告

专利名称：镀膜件及其制备方法

摘要：本发明提供一种镀膜件，其包括铝基基体及依次形成于铝基基体表面的硅层、氮氧化硅层及氮氧化铬层。本发明镀膜件，所镀膜系逐层过渡良好，膜层与铝基基体的附着牢固；所述绝缘的硅层可有效避免铝基基体的微电池腐蚀；所述氮氧化铬层膜层非常致密，可有效防止盐雾对铝基基体的侵蚀，进一步提高铝基基体的抗腐蚀性能。此外，本发明还提供一种上述镀膜件的制备方法。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110005588.6

专利申请（专利权）人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司

专利发明（设计）人：张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;熊小庆

主权项：一种镀膜件，其包括铝基基体，其特征在于：该镀膜件还包括依次形成于铝基基体表面的硅层、氮氧化硅层及氮氧化铬层。

专利地区：广东