镀膜件及其制备方法专利登记公告

专利名称：镀膜件及其制备方法

摘要：本发明提供一种镀膜件及该镀膜件的制备方法。该镀膜件包括包括基体及形成于基体表面的抗指纹层，该抗指纹层为纳米级碳氮氟层，其化学式为CXN1-XFY，其中0.6≤X≤0.8，0.2≤Y≤0.4。该镀膜件的制备方法包括如下步骤：提供一基体；以石墨靶为靶材，以氮气、四氟化碳气体为反应气体，采用磁控溅射镀膜法在该基体的表面溅镀纳米级CXN1-XFY的抗指纹层，其中0.6≤X≤0.8，0.2≤Y≤0.4。该镀膜件具有良好的抗指纹功能。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110006663.0

专利申请（专利权）人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司

专利发明（设计）人：张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;李聪

主权项：一种镀膜件，其包括一基体及形成于基体表面的抗指纹层，其特征在于：该抗指纹层为纳米级碳氮氟层，其化学式为CXN1?XFY，其中0.6≤X≤0.8，0.2≤Y≤0.4。

专利地区：广东