掩模板及应用其制造薄膜晶体管阵列基板的方法专利登记公告

专利名称：掩模板及应用其制造薄膜晶体管阵列基板的方法

摘要：本发明公开了一种掩模板及应用其制造薄膜晶体管阵列基板的方法，涉及半导体领域的掩模技术，解决了使用现有双色调掩模板的光刻工艺中，光刻胶上各图案区之间，高浓度显影液向低浓度显影液扩散的问题。本发明通过在掩模板上的两个图案区间设置冗余图案，并用该掩模板对光刻胶曝光，使得在显影过程中，光刻胶上形成的对应于掩模板冗余图案的光刻胶冗余图案，该光刻胶冗余图案可阻挡高浓度显影液向低浓度显影液扩散，从而提高了产品良率。本发明主要用于平面电场型薄膜晶体管液晶显示器阵列基板的制造。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110024105.7

专利申请（专利权）人：京东方科技集团股份有限公司

专利发明（设计）人：惠官宝;崔承镇;张锋;薛建设

主权项：一种掩模板，用于掩膜光刻工艺，包括第一图案区及第二图案区，其特征在于，所述掩模板还包括设置于第一图案区与第二图案区之间的冗余图案，所述冗余图案用于在光刻胶上形成光刻胶冗余图案，以阻挡所述光刻胶冗余图案两侧浓度不同的显影液向对侧扩散。

专利地区：北京