光刻蚀方法、光罩组合及曝光系统专利登记公告

专利名称：光刻蚀方法、光罩组合及曝光系统

摘要：本发明公开了一种光刻蚀方法，所述方法包括：在基底上形成待图案化的材料层；在所述材料层上形成光致抗蚀剂层；使用叠加的至少两光罩对所述光致抗蚀剂层进行曝光，每个光罩上设有相应图案，所述至少两光罩上的相应图案叠加结合而形成新图案；对所述曝光后的光致抗蚀剂层进行处理而得到对应新图案的镂空结构；利用所述镂空结构对材料层进行刻蚀，以形成图案化的材料层。本发明还公开了一种光罩组合和一种光罩系统。通过上述方式，本发明能够降低光罩的重新制作机率，节约成本。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210082947.2

专利申请（专利权）人：深圳市华星光电技术有限公司

专利发明（设计）人：郑文达

主权项：一种光刻蚀方法，其特征在于，包括：在基底上形成待图案化的材料层；在所述材料层上形成光致抗蚀剂层；使用叠加的至少两光罩对所述光致抗蚀剂层进行曝光，每个光罩上设有相应图案，所述至少两光罩上的相应图案叠加结合而形成新图案；对所述曝光后的光致抗蚀剂层进行处理而得到对应新图案的镂空结构；利用所述镂空结构对材料层进行刻蚀，以形成图案化的材料层。

专利地区：广东