外延结构及其制备方法专利登记公告

专利名称：外延结构及其制备方法

摘要：本发明涉及一种外延结构及其制备方法。该外延结构包括：一基底，该基底具有一外延生长面，以及一外延层形成于所述基底的外延生长面，其中，进一步包括一碳纳米管层设置于所述外延层与基底之间。该外延结构的制备方法包括以下步骤：提供一基底，该基底具有一支持外延层生长的外延生长面；在所述基底的外延生长面设置一碳纳米管层；以及在基底的外延生长面生长外延层。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110025832.5

专利申请（专利权）人：清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司

专利发明（设计）人：魏洋;冯辰;范守善

主权项：一种外延结构的制备方法，其包括以下步骤：提供一基底，该基底具有一支持外延层生长的外延生长面；在所述基底的外延生长面设置一碳纳米管层；以及在基底的外延生长面生长外延层。

专利地区：北京