低辐射薄膜、低辐射镀膜玻璃及其制备方法专利登记公告

专利名称：低辐射薄膜、低辐射镀膜玻璃及其制备方法

摘要：本发明提供了一种低辐射薄膜，包括：衬底，置于所述衬底上的第一介质层，所述第一介质层为Ta2O5；置于所述第一介质层上的功能层，所述功能层为Ag；置于所述功能层上的第二介质层，所述第二介质层为Ta2O5。本发明还提供了一种低辐射玻璃及其制备方法。本发明采用Ta2O5作为第一介质层和第二介质层，Ta2O5能够形成致密的薄膜，作为介质层时，能够有效阻隔空气中的氧气和水汽等渗透进入功能层，从而减轻氧气和水汽对金属银的腐蚀氧化，增加低辐射薄膜的稳定性，使得低辐射薄膜不易失去低辐射性能。实验表明，本发明提供的低辐射玻

专利类型：发明专利

专利号：CN201110049715.2

专利申请（专利权）人：苏州大学

专利发明（设计）人：狄国庆

主权项：一种低辐射薄膜，包括：衬底；置于所述衬底上的第一介质层，所述第一介质层为Ta2O5；置于所述第一介质层上的功能层，所述功能层为Ag；置于所述功能层上的第二介质层，所述第二介质层为Ta2O5。

专利地区：江苏