一种图案化石墨烯薄膜的制备方法专利登记公告

专利名称：一种图案化石墨烯薄膜的制备方法

摘要：本发明提供了一种图案化石墨烯薄膜的制备方法，其包括如下步骤：先将光刻胶或PMMA涂于衬底上，并对其进行图案化处理，其中需要形成石墨烯图案的区域的光刻胶或PMMA被去除；然后将氧化石墨烯溶液涂覆于所得到的衬底上，并成膜；再将所得的衬底至于肼蒸汽中进行还原处理，将氧化石墨烯处理成石墨烯，得到石墨烯薄膜；最后将所得的衬底在丙酮或光刻胶剥离液中浸泡，除去光刻胶或PMMA以及光刻胶或PMMA上面的石墨烯薄膜，得到图案化的石墨烯薄膜。本发明通过简单的在衬底上形成图案化的光刻胶或PMMA，以实现制备图案化的石墨烯薄膜。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110231196.1

专利申请（专利权）人：京东方科技集团股份有限公司

专利发明（设计）人：张锋;戴天明;姚琪

主权项：一种图案化石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，其包括如下步骤：1)先将光刻胶或PMMA涂于衬底上，并对其进行图案化处理，其中需要形成石墨烯图案的区域的光刻胶或PMMA被去除；2)然后将氧化石墨烯溶液涂覆于步骤1)所得到的衬底上，并成膜；3)再将步骤2)所得的衬底至于肼蒸汽中进行还原处理，将步骤2)中的氧化石墨烯处理成石墨烯，得到石墨烯薄膜；4)将步骤3)所得的衬底在丙酮或光刻胶剥离液中浸泡，除去光刻胶或PMMA以及光刻胶或PMMA上面的石墨烯薄膜，得到图案化的石墨烯薄膜。

专利地区：北京