抛光方法专利登记公告

专利名称：抛光方法

摘要：一种抛光方法，包括：每完成预定数量晶圆的抛光操作后，对固结磨料抛光垫的表面进行检测；获取检测所得到的所述固结磨料抛光垫上磨料块的检测数据，所述检测数据反映出所述磨料块的磨损状况；基于所述检测数据设定对应的抛光参数进行后续的抛光操作。本发明能够提高固结磨料抛光法进行抛光操作时的稳定性。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110054477.4

专利申请（专利权）人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

专利发明（设计）人：蒋莉

主权项：一种抛光方法，其特征在于，包括：每完成预定数量晶圆的抛光操作后，对固结磨料抛光垫的表面进行检测；获取检测所得到的所述固结磨料抛光垫上磨料块的检测数据，所述检测数据反映出所述磨料块的磨损状况；基于所述检测数据设定对应的抛光参数进行后续的抛光操作。

专利地区：上海