一种多孔氧化铝基相位透射光栅的制备方法专利登记公告

专利名称：一种多孔氧化铝基相位透射光栅的制备方法

摘要：本发明涉及一种多孔氧化铝基相位透射光栅的制备方法，先在透明硬质光学基片表面采用磁控溅射或化学气相沉积的方法镀制一层透明导电氧化物层；再采用溅射或蒸发的方法在透明导电氧化物层镀制一层纯度大于99.99％的高纯铝薄膜；然后制备成多孔氧化铝薄膜；在多孔氧化铝薄膜表面覆盖一层厚度为0.5～1.5μm的光刻胶；采用光刻技术将预定的光栅条纹结构刻制在样品表面的光刻胶上；接着进行化学刻蚀，将样品表面光刻胶层刻有的光栅条纹结构转移到透明导电光学基片表面的多孔氧化铝薄膜内部；最后去除表面残留的光刻胶，得到所需的多孔氧化铝基

专利类型：发明专利

专利号：CN201110058407.6

专利申请（专利权）人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所

专利发明（设计）人：杨毅;王彪;许高杰;崔平

主权项：一种多孔氧化铝基相位透射光栅的制备方法，其特征在于包括以下步骤：1)在透明硬质光学基片表面采用磁控溅射或化学气相沉积方法镀制一层透明导电氧化物层；2)在镀制有透明导电氧化物层的光学基片上采用溅射或蒸发的方法镀制一层纯度大于99.99％(wt)的高纯铝薄膜；3)将得到的高纯铝薄膜采用阳极氧化法制备成多孔氧化铝薄膜；4)将表面附着有多孔氧化铝薄膜的基片经清洗后晾干，采用匀胶机在多孔氧化铝薄膜表面覆盖一层厚度为0.5～1.5μm的光刻胶；5)把覆盖有光刻胶的样品烘干，采用光刻技术将预定的光栅条纹结构刻制在样品表

专利地区：浙江