一种激发荧光强度均匀校正方法专利登记公告

专利名称：一种激发荧光强度均匀校正方法

摘要：本发明涉及一种激发荧光强度均匀校正方法，所述方法的技术方案如下：利用光谱曲线相同的两片激发滤光片，一片放在激发光源出口，另一片放在CCD探测器前，经激发光照射物体时探测器获得第一图像；将放在CCD探测器前的滤光片换成发射滤光片，经激发光照射物体时探测器获得第二图像。接下来将第二图像中像素值除以第一图像中相应像素值获得中间校正图像。对中间校正图像进行归一化和取整处理得到最终校正图像。经过激发荧光强度均匀校正后的图像修正了受激发的物体表面接收激发光强度不均匀所带来的误差，因此能更真实地反映受激发的荧光图像。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110064845.3

专利申请（专利权）人：中国科学院自动化研究所

专利发明（设计）人：田捷;薛贞文;杨鑫;秦承虎

主权项：一种激发荧光强度均匀校正方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：步骤S1：将第一激发滤光片放在激发光源出口，将第二激发滤光片放在CCD探测器前，经激发光照射物体时探测器获得第一图像；步骤S2：第一激发滤光片仍放在激发光源出口，移除放在CCD探测器前的第二激发滤光片，在CCD探测器前放置发射滤光片，经激发光照射物体时探测器获得第二图像；步骤S3：将第二图像中的所有像素值除以第一图像中对应像素值，获得中间校正图像；步骤S4：对中间校正图像进行归一化和取整处理得到最终校正图像。

专利地区：北京