托盘、腔室装置和外延设备专利登记公告

专利名称：托盘、腔室装置和外延设备

摘要：本发明提出了一种托盘、腔室装置和外延设备。所述托盘包括：托盘本体，所述托盘本体上具有环形基片承载区，所述环形基片承载区的热传导率在所述托盘本体的径向方向上由内向外降低。本发明实施例通过对托盘本体之中环形基片承载区的热传导率进行调整，从而提高托盘中承载基片部分的表面温度均匀性和稳定性，且降低托盘内环温度，从而有效提高薄膜的光学质量及原材料的利用率，且大大提高产品的良率。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110066937.5

专利申请（专利权）人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司

专利发明（设计）人：张慧;徐亚伟

主权项：一种托盘，其特征在于，包括：托盘本体，所述托盘本体上具有环形基片承载区，所述环形基片承载区的热传导率在所述托盘本体的径向方向上由内向外降低。

专利地区：北京