一种具有抗反射表面的ZnS红外光学窗口及其制备方法专利登记公告

专利名称：一种具有抗反射表面的ZnS红外光学窗口及其制备方法

摘要：本发明公开了一种具有抗反射表面的ZnS红外光学窗口及其制备方法。所述的ZnS红外光学窗口的抗反射表面是由ZnS衬底上柱状或孔洞面形的二维亚波长结构单元通过周期性排列而构成的二维亚波长结构表面。制备时，先通过光刻技术把图形复制在涂覆于双面光学抛光的ZnS衬底上的光刻胶膜层中后，采用反应离子刻蚀技术在ZnS衬底上刻蚀出二维亚波长结构表面。本发明制备的具有抗反射表面的ZnS红外光学窗口，在8～12μm波段具有很好的红外透射性能。本发明所提供的ZnS红外光学窗口，其抗反射表面由柱状或孔洞面形的二维亚波长结构单元周期性排列而成，结构参数较大、高宽比较小，制备方法简单、经济、效率高，抗反射效果理想。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110109779.7

专利申请（专利权）人：西北工业大学

专利发明（设计）人：李阳平;刘正堂;徐启远;武倩

主权项：一种具有抗反射表面的ZnS红外光学窗口，用双面光学抛光的ZnS衬底进行单面刻蚀而成；其特征在于，所述的ZnS红外光学窗口的抗反射表面为由若干个柱状面形或孔洞面形二维亚波长结构单元周期性排列而成的二维亚波长结构表面；所述的柱状面形二维亚波长结构单元是在ZnS衬底的一个表面上的单个凸台，所述的孔洞面形二维亚波长结构单元是在ZnS衬底的一个表面上的单个盲孔；柱状面形或孔洞面形二维亚波长结构单元周期性排列时，在平行于ZnS衬底上表面的x方向和y方向上，若干个柱状或孔洞面形二维亚波长结构单元排列周期T、占空比f以及二维亚波长结构单元的宽度w、二维亚波长结构单元间的间隔d分别相等，即具有对称性，其中占空比f＝w/T；所述的柱状面形或孔洞面形结构单元的周期T为3.0～4.0μm，占空比f为50～80％，高度h为1.0～2.5μm。

专利地区：陕西