脉冲气流法生长GaP电流扩展层的方法专利登记公告

专利名称：脉冲气流法生长GaP电流扩展层的方法

摘要：本发明公开一种脉冲气流法生长GaP电流扩展层的方法，在生长GaP电流扩展层时，向金属有机化学气相沉积系统的反应室中，脉冲式交替通入含有镓原子的MO源、磷烷和掺杂源，或者保持磷烷的流量不变，脉冲式通入含镓的MO源和掺杂源。该方法可以增加镓原子和磷原子在外延层表面的迁移时间，使其充分覆盖外延层表面，从而得到高质量的GaP电流扩展层。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110132001.8

专利申请（专利权）人：厦门乾照光电股份有限公司

专利发明（设计）人：陈凯轩;张银桥;蔡建九;张永;林志伟;单智发;张双翔;占荣;王向武

主权项：一种脉冲气流法生长GaP电流扩展层的方法，其特征在于：在生长GaP电流扩展层时，向金属有机化学气相沉积系统的反应室中，脉冲式通入含有镓原子的MO源、磷烷和掺杂源，或者保持磷烷的流量不变，脉冲式通入含镓的MO源和掺杂源。

专利地区：福建