光掩模、利用该光掩模形成叠对标记的方法及二次图案化工艺的对位精度提高方法专利登记公告

专利名称：光掩模、利用该光掩模形成叠对标记的方法及二次图案化工艺的对位精度提高方法

摘要：本发明涉及一种光掩模、利用该光掩模形成叠对标记的方法及一种二次图案化工艺的对位精度提高方法，该光掩模包括多个图案，所述多个图案至少其中之一包括多个环状区域及多个内部区域，所述多个内部区域被所述多个环状区域所包围，其中所述多个环状区域的透光性与所述多个内部区域的透光性不同。当该光掩模应用于光刻工艺，其所形成的叠对标记具有较大的厚度。因此，测量时，其对比较高，且较容易找到该叠对标记。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110164983.9

专利申请（专利权）人：南亚科技股份有限公司

专利发明（设计）人：邱垂福

主权项：一种光掩模，包括：多个图案，所述多个图案至少其中之一包括多个环状区域及多个内部区域，所述多个内部区域被所述多个环状区域所包围，其中所述多个环状区域的透光性与所述多个内部区域的透光性不同。

专利地区：台湾