掩模及决定掩模图案的方法专利登记公告

专利名称：掩模及决定掩模图案的方法

摘要：本发明公开了一种掩模及决定掩模图案的方法，该掩模包括一基材及多个矩形区域，其中该多个矩形区域的透光性与该基材的透光性不同。该多个矩形区域是以阵列方式排列在该基材上，且该多个矩形区域间的间隙不均一。由此，该掩模具有较佳的归一化影像对数斜率或聚焦深度。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110274128.3

专利申请（专利权）人：南亚科技股份有限公司

专利发明（设计）人：吴俊伟

主权项：一种制备阵列排列的圆形图案的掩模，其特征在于，包括：一基材；及多个矩形区域，其中该多个矩形区域的透光性与该基材的透光性不同，该多个矩形区域以阵列方式排列在该基材上，所述多个矩形区域包括一第一矩形区域、一第二矩形区域及一第三矩形区域，该第一矩形区域及该第二矩形区域间具有一第一间隙，该第一矩形区域及该第三矩形区域间具有一第二间隙，且该第一间隙与该第二间隙不同。

专利地区：台湾