离子注入装置专利登记公告

专利名称：离子注入装置

摘要：本发明提供一种离子注入装置，以廉价且简单的装置结构，能够防止离子源产生的微粒混入基板。本发明的离子注入装置(IM)包括：离子源(1)，通过离子束引出口(14)朝向与重力方向(G)交差的方向引出离子束(2)；输送盘(7)，装载有基板(4)；掩模(5)，安装在输送盘(7)上，且至少具有一个开口部(6)；以及驱动机构，通过使输送盘(7)在与离子束(2)交差的方向上移动，使离子束(2)经过掩模(5)上形成的开口部(6)，对基板的规定区域进行照射。该离子注入装置还包括防尘板(11)，在沿重力方向(G)观察离子束引出

专利类型：发明专利

专利号：CN201110300414.2

专利申请（专利权）人：日新离子机器株式会社

专利发明（设计）人：内藤胜男;佐佐木彰

主权项：一种离子注入装置，包括：离子源，通过离子束引出口朝向与重力方向交差的方向引出离子束；输送盘，装载有基板；掩模，安装在所述输送盘上，且至少具有一个开口部；以及驱动机构，通过使所述输送盘在与所述离子束交差的方向上移动，使所述离子束经过所述掩模上形成的开口部，对所述基板的规定区域进行照射，所述离子注入装置的特征在于，还包括防尘板，在沿重力方向观察所述离子束引出口时，所述防尘板覆盖所述离子束引出口的下方，并且不妨碍所述离子束照射所述基板。

专利地区：日本