液晶显示器阵列基板的制造方法专利登记公告

专利名称：液晶显示器阵列基板的制造方法

摘要：本发明涉及制造液晶显示器的阵列基板的方法，包括在基板上形成铜基金属层并利用刻蚀溶液组成刻蚀铜基金属层，从而形成栅极接线；以及在半导体层上形成铜基金属层，并利用刻蚀溶液组成刻蚀铜基金属层，从而形成源极和漏极，其中基于该组成的总重量，刻蚀溶液组成包括A)过氧化氢、B)含氟化合物、C)0.1～5wt％吡咯基化合物、D)选自膦酸衍生物及其盐的一个或多个化合物、E)磷酸盐化合物以及F)余量的水。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110408043.X

专利申请（专利权）人：东友FINE-CHEM股份有限公司

专利发明（设计）人：李铉奎;李石;郑敬燮;李恩远;金镇成;崔容硕;李俊雨;金相泰

主权项：一种制造液晶显示器的阵列基板的方法，其特征在于，包括：a)在基板上形成栅极接线；b)在包括栅极接线的基板上形成栅绝缘层；c)在栅绝缘层上形成半导体层；d)在半导体层上形成源极和漏极；以及e)形成连接漏极的像素电极，其中，所述a)包括在基板上形成铜基金属层，并利用刻蚀溶液组成刻蚀铜基金属层，从而形成栅极接线，所述d)包括在半导体层上形成铜基金属层，并利用刻蚀溶液组成刻蚀铜基金属层，从而形成源极和漏极，以及基于组成的总重量，刻蚀溶液组成包括A)5～25wt％过氧化氢、B)0.01～1.0wt％含氟化合物、C)

专利地区：韩国