光波导路的制造方法专利登记公告

专利名称：光波导路的制造方法

摘要：本发明提供一种光波导路的制造方法，其能够在使用成型模具形成上包层的情况下利用CCD摄像机等识别装置容易地识别定位该成型模具时所使用的对准标记。在形成于基板(10)上的下包层(1)的上表面上，利用光刻法突出形成芯(2)和对准标记，使用将该对准标记作为记号进行定位的成型模具形成上包层，其中，在形成上述对准标记时，作为光掩模(20)，使用对准标记形成用的开口图案(23)由开口部(23a)和该开口部(23a)周围的、开口率被设定在大于10％且小于80％的范围内的透光量减少区域(23b)构成的光掩模，对准标记的周侧

专利类型：发明专利

专利号：CN201110411253.4

专利申请（专利权）人：日东电工株式会社

专利发明（设计）人：柴田直树;内藤龙介;水谷道

主权项：一种光波导路的制造方法，其包括利用光刻法在下包层的上表面上突出形成芯和对准标记、且将该对准标记作为记号来定位上包层形成用的成型模具而形成上包层的工序，其特征在于，作为用于上述光刻法的光掩模，使用对准标记形成用的开口图案由开口部和该开口部周围的、开口率被设定在大于10％且小于80％的范围内的透光量减少区域构成的光掩模，以透过上述透光量减少区域的照射线的减少为起因，对准标记的周侧面形成为倾斜面，从而提高识别装置对于对准标记的识别性。

专利地区：日本