曝光方法及其装置专利登记公告

专利名称：曝光方法及其装置

摘要：本发明提供一种曝光方法及其装置。为了削减在LED光源中使用的LED元件数，小型并且低成本地提供能够在短时间内获得充分的光量的曝光用光源，而使曝光装置构成为具备：曝光用光源单元，其发出曝光光；台单元，其承载曝光用基板，并能够在平面内移动；控制单元，其控制台单元和曝光用光源单元，曝光用光源单元具备2维排列了多个发光元件的光源部，控制单元在通过曝光用光源单元在预定的时间内以预定的曝光总光量对承载在台单元上的曝光用基板进行曝光时，控制光源部，一边依次改变照射条件，一边使得从该光源部发出多个脉冲光，对曝光用基板进行

专利类型：发明专利

专利号：CN201110413542.8

专利申请（专利权）人：株式会社日立高新技术

专利发明（设计）人：石田进;手塚秀和;土井秀明;斋藤佳大;根本亮二

主权项：一种曝光装置，包括：曝光用光源单元，其发出曝光光；台单元，其承载涂敷了感光剂的曝光用基板，并能够在平面内移动；以及控制单元，其控制上述台单元和上述曝光用光源单元，上述曝光装置的特征在于，上述曝光用光源单元具备2维排列了多个发光元件的光源部，上述控制单元，在通过上述曝光用光源单元在预定的时间内以预定的曝光总光量对承载在上述台单元上的上述曝光用基板上涂敷的感光剂进行曝光时，控制上述光源部，一边依次改变照射条件一边使得从该光源部发出多个脉冲光，对涂敷在上述曝光用基板上的感光剂进行曝光。

专利地区：日本