一种精确测量WEE宽度的方法专利登记公告

专利名称：一种精确测量WEE宽度的方法

摘要：本发明公开了一种精确测量WEE宽度的方法，包括如下步骤：首先，将光刻机挡板设置在需曝光使用的光刻对位标记上；然后，按照放置要求，将光刻对位标记依次曝光放置在晶片边缘；最后，经WEE后，根据WEE分界线和晶片边缘之间的WEE分界线外显影后不存在的图形曝光的布局数据和显影后保存的完整光刻对位标记个数及是否包含不完整光刻对位标记，计算WEE宽度，光刻对位标记数量采用进一法，不足一个完整光刻对位标记的按一个计算；本发明是采用在边缘曝光图形的方法来确认WEE的宽度，用于判断WEE宽度的图形在显微镜下可以观察到，且其

专利类型：发明专利

专利号：CN201210039478.6

专利申请（专利权）人：西安中为光电科技有限公司

专利发明（设计）人：刘波波;王省莲;白俊春;李培咸;廉大桢;闫秋迎;王旭明;郭迟;王晓波;孟锡俊;黄兆斌;张翼

主权项：一种精确测量WEE宽度的方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤1：将光刻机挡板设置在需曝光使用的光刻对位标记上；步骤2：将光刻对位标记依次曝光放置在晶片边缘，放置要求如下：1)光刻对位标记的放置位置至少为上下左右四个位置；2)各相邻光刻对位标记互相错开；3)各相邻光刻对位标记间的间距为0，即光刻机的步进距离为光刻对位标记尺寸；4)最外侧光刻对位标记距晶片边缘距离小于0.5毫米；步骤3：经WEE后，根据WEE分界线(1)和晶片边缘(3)之间的WEE分界线外显影后不存在的图形(2)曝光的布局数据和显影后保存的完

专利地区：陕西