用于准确记录的系统和方法专利登记公告

专利名称：用于准确记录的系统和方法

摘要：本发明名称为“用于准确记录的系统和方法”。公开用于计算全息盘中记录深度的方法，包括：将第一外部电压施加到与物镜耦合的一个或多个致动器，以便将具有第一波长的辐射的跟踪光束聚焦在盘的参考层上，其中参考层包括部分二向色涂层或部分金属化涂层中至少一个；将第二外部电压施加到与物镜耦合的一个或多个致动器，以便将辐射的记录光束聚焦在盘的参考层上，其中记录光束包括与跟踪光束的第一波长不同的第二波长；计算第一外部电压与第二外部电压之间的差；基于该差使用电压-距离校准曲线计算透镜位移距离，其中透镜位移距离指为将辐射的跟踪光束

专利类型：发明专利

专利号：CN201110414348.1

专利申请（专利权）人：通用电气公司

专利发明（设计）人：任志远;史晓蕾;V·P·奥斯特罗弗霍夫

主权项：一种用于计算全息盘中的记录深度的方法，所述方法包括：将第一外部电压施加到与物镜耦合的一个或多个致动器，以便将具有第一波长的辐射的跟踪光束聚焦在所述盘的参考层上，其中所述参考层包括部分二向色涂层或部分金属化涂层中的至少一个；将第二外部电压施加到与所述物镜耦合的所述一个或多个致动器，以便将辐射的记录光束聚焦在所述盘的所述参考层上，其中所述记录光束包括与所述跟踪光束的所述第一波长不同的第二波长；计算所述第一外部电压与所述第二外部电压之间的差；基于所述差，使用电压?距离校准曲线来计算透镜位移距离，其中所述透镜位移

专利地区：美国