含碳薄膜的宽度减小方法及氧化装置专利登记公告
专利名称：含碳薄膜的宽度减小方法及氧化装置
摘要：本发明提供含碳薄膜的宽度减小方法及氧化装置。该含碳薄膜的宽度减小方法包括以下工序：输入工序，其用于将形成有被图案化了的含碳薄膜的被处理体向氧化装置的处理容器内输入；宽度减小工序，其用于一边向处理容器内供给水分一边利用氧化气体对含碳薄膜的表面进行氧化处理而除去该含碳薄膜的表面，由此，使图案的凸部的宽度减小。
专利类型：发明专利
专利号：CN201110430826.8
专利申请（专利权）人：东京毅力科创株式会社
专利发明（设计）人：佐藤润;长谷川雅之
主权项：一种含碳薄膜的宽度减小方法，其特征在于，该含碳薄膜的宽度减小方法包括以下工序：输入工序，其用于将形成有被图案化了的含碳薄膜的被处理体向氧化装置的处理容器内输入；宽度减小工序，其用于一边向上述处理容器内供给水分一边利用氧化气体对上述含碳薄膜的表面进行氧化处理而除去该含碳薄膜的表面，由此，使上述图案的凸部的宽度减小。
专利地区：日本
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