光波导路的制造方法专利登记公告

专利名称：光波导路的制造方法

摘要：本发明提供一种光波导路的制造方法。在基板(A)上划分出多个与光波导路(W)相对应的区域，在每个该区域中形成光波导路下包层(1)并且在相互邻接的光波导路下包层(1)之间，以与该光波导路下包层(1)留出间隙的方式形成虚设下包层(D)。接下来，在光波导路下包层(1)及虚设下包层(D)的上表面上形成芯(2)后，整面涂布上包层形成用的感光性树脂。然后，有选择地曝光感光性树脂层(3a)的与多个光波导路(W)相对应的部分而使该曝光部分形成为上包层(3)，从而形成由光波导路下包层(1)、芯(2)及上包层(3)构成的多个光

专利类型：发明专利

专利号：CN201110433890.1

专利申请（专利权）人：日东电工株式会社

专利发明（设计）人：高濑真由;宗和范

主权项：一种用于制造多个光波导路的光波导路的制造方法，其特征在于，包括：形成虚设下包层的工序，在基板上划分出多个与光波导路相对应的区域，进行下包层形成用的感光性树脂的涂布及曝光，由此在每个上述区域中形成光波导路下包层，并且在相互邻接的上述光波导路下包层与光波导路下包层之间形成虚设下包层，且使该虚设下包层与该光波导路下包层之间有间隙；形成芯的工序，在上述光波导路下包层及上述虚设下包层的上表面，进行芯形成用的感光性树脂的涂布及曝光而形成芯；形成感光性树脂层的工序，以覆盖上述芯的状态涂布上包层形成用的感光性树脂而形成该

专利地区：日本