一种用于离子交换的玻璃基材的掩膜工艺专利登记公告

专利名称：一种用于离子交换的玻璃基材的掩膜工艺

摘要：本发明涉及一种用于离子交换的玻璃基材的掩膜工艺，主要工艺步骤包括：(一)玻璃基材表面清洗；(二)掩膜材料成膜；(三)图形转移；所用的掩膜材料为与熔融银盐和玻璃基材不发生反应的介质材料或者金属材料或者聚合物材料。与现有技术相比，采用所选用的掩膜材料和相应的工艺，可以避免掩膜与离子交换熔盐和玻璃基材的反应，在离子交换过程中可以制备出低损耗的离子交换光波导和PLC光分路器。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210093645.5

专利申请（专利权）人：上海光芯集成光学股份有限公司

专利发明（设计）人：王明华;杨建义;王毅强;郝寅雷;商惠琴

主权项：一种用于离子交换的玻璃基材的掩膜工艺，主要工艺步骤包括：(一)玻璃基材表面清洗；(二)掩膜材料成膜；(三)图形转移；其特征在于，所用的掩膜材料为与熔融银盐和玻璃基材不发生反应的介质材料或者金属材料或者聚合物材料。

专利地区：上海