一种二极管芯片的酸洗工艺专利登记公告

专利名称：一种二极管芯片的酸洗工艺

摘要：本发明公开了一种二极管芯片的酸洗工艺，依次为混合酸清洗，酸与双氧水混合清洗，氨水与双氧水混合清洗，所述酸与双氧水混合清洗液为双氧水，硫酸，纯水，它们的体积配比是双氧水∶硫酸∶纯水为1∶1∶15～30，混合液具体配制为：先加入纯水，在加入双氧水，最后加入硫酸。改进后的硫酸混合液能较好的替代磷酸混合液，且配比浓度低，既节约了成本，又消除了磷离子污染。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110436748.2

专利申请（专利权）人：重庆平伟实业股份有限公司

专利发明（设计）人：李述洲;王艳明;安国星

主权项：一种二极管芯片的酸洗工艺，依次为混合酸清洗，酸与双氧水清洗，氨水与双氧水清洗，其特征在于：所述酸与双氧水的混合清洗液为双氧水，硫酸和纯水，所述双氧水，硫酸和纯水的体积比为1：1：15～30。

专利地区：重庆