薄膜太阳能电池及其制作方法专利登记公告
专利名称:薄膜太阳能电池及其制作方法
摘要:本发明是有关于薄膜太阳能电池及其制作方法,其中,薄膜太阳能电池是包括:一基板;一第一电极,是设置于基板上;一阻挡层,是设置于第一电极上,其中阻挡层的材料是为一导电材料;一欧姆接触层,是设置于阻挡层上;一吸收层,是设置于欧姆接触层上;一缓冲层,是设置于吸收层上;一透明导电层,是设置于缓冲层上;以及一第二电极,是设置于透明导电层上。
专利类型:发明专利
专利号:CN201110441126.9
专利申请(专利权)人:彭洞清
专利发明(设计)人:彭洞清;方嘉锋
主权项:一种薄膜太阳能电池,包括:一基板;一第一电极,设置于该基板上;一阻挡层,设置于该第一电极上,其中该阻挡层的材料为一导电材料;一欧姆接触层,设置于该阻挡层上;一吸收层,设置于该欧姆接触层上;一缓冲层,设置于该吸收层上;一透明导电层,设置于该缓冲层上;以及一第二电极,设置于该透明导电层上。
专利地区:台湾
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目,不代表该专利由我公司代理取得,上述专利权利属于专利权人,未经(专利权人)许可,擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利,请搜索专利权人联系方式,获得专利权人的授权许可。