基于SOI材料的悬空谐振光子器件及其制备方法专利登记公告
专利名称:基于SOI材料的悬空谐振光子器件及其制备方法
摘要:本发明公开了一种基于SOI材料的悬空谐振光子器件及其制备方法,实现载体为SOI晶片,从上到下依次包括顶层硅器件层、氧化埋层和硅衬底层,所述硅衬底层具有一个贯穿至所述氧化埋层下表面的长方体空腔;所述顶层硅器件层位于空腔上方的部分具有纳米光子器件结构。本发明还公开了一种基于SOI材料的悬空谐振光子器件的制备方法。本发明所设计的基于SOI材料的悬空谐振光子器件及其制作方法能够实现光波与悬空光子器件的交互作用,便于与硅微电子技术集成,实现集成硅基光电子器件。
专利类型:发明专利
专利号:CN201110441604.6
专利申请(专利权)人:南京邮电大学
专利发明(设计)人:王永进;朱洪波
主权项:一种基于SOI材料的悬空谐振光子器件,实现载体为SOI晶片,从上到下依次包括顶层硅器件层、氧化埋层和硅衬底层,其特征在于:所述硅衬底层具有一个贯穿至所述氧化埋层下表面的长方体空腔;所述顶层硅器件层位于空腔上方的部分具有纳米光子器件结构。
专利地区:江苏
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目,不代表该专利由我公司代理取得,上述专利权利属于专利权人,未经(专利权人)许可,擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利,请搜索专利权人联系方式,获得专利权人的授权许可。