对二甲氨基吡啶瑞格列奈共晶专利登记公告

专利名称：对二甲氨基吡啶瑞格列奈共晶

摘要：本发明涉及一种由对二甲氨基吡啶与瑞格列奈结合形成的对二甲氨基吡啶瑞格列奈共晶。使用Cu-Kα辐射，以度2θ表示的X射线粉末衍射光谱在7.630、8.472、8.676、10.238、11.182、11.977、13.006、14.765、16.120、16.945、17.896、18.326、18.999、21.024、22.551、23.659、24.586、28.782和32.831有特征峰；用KBr压片测定得到的红外吸收光谱约在3239，3054，2932，2794，1672，1643，1561，1

专利类型：发明专利

专利号：CN201110446522.0

专利申请（专利权）人：中国药科大学

专利发明（设计）人：张建军;齐宣;郝君;高缘

主权项：一种对二甲氨基吡啶瑞格列奈共晶，其特征在于，是由瑞格列奈与对二甲氨基吡啶结合形成，使用Cu?Kα辐射，以度2θ表示的X射线粉末衍射光谱特征如下：用KBr压片测定得到的红外吸收光谱约在3239，3054，2932，2794，1672，1643，1561，1446，1382，1244，1217，1175，1053，942，816，769，728，650，535和426cm?1处有吸收峰；其DSC吸热转变主要约在160.0℃。

专利地区：江苏