一种液晶显示面板阵列基板的制作方法专利登记公告

专利名称：一种液晶显示面板阵列基板的制作方法

摘要：一种提升液晶显示面板阵列基板穿透率的制作方法，包括如下步骤，首先提供一基板，依次形成栅极、栅极绝缘层、半导体层、第一透明电极、源极和漏极于该基板上，再形成第一钝化层覆盖该源极、漏极、半导体层和该栅极绝缘层，接着再形成第二钝化层覆盖第一钝化层，最后再形成第二透明电极于该第二钝化层上，其中第一钝化层的沉积功率小于5500瓦，第二钝化层的沉积功率大于5000瓦。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110453765.7

专利申请（专利权）人：深超光电(深圳)有限公司

专利发明（设计）人：许民庆;杨妮;庄塗城;余鸿志

主权项：一种液晶显示面板阵列基板的制作方法，包括如下步骤：提供一基板；依次形成栅极、栅极绝缘层、半导体层、第一透明电极、源极和漏极于该基板上；再形成第一钝化层覆盖该源极、漏极、半导体层和该栅极绝缘层，其中该第一钝化层的沉积功率小于5500瓦；接着再形成一第二钝化层覆盖该第一钝化层，其中该第二钝化层的沉积功率大于5000瓦；然后再形成第二透明电极于该钝化层上。

专利地区：广东