图形化衬底的制作方法专利登记公告

专利名称：图形化衬底的制作方法

摘要：本发明公开了一种图形化衬底的制作方法，所述方法包括：提供一衬底；在衬底上沉积铟锡氧化物薄膜；使用铟锡氧化物腐蚀液对铟锡氧化物薄膜进行湿法刻蚀，以在衬底表面形成不连续的铟锡氧化物薄膜；将上述不连续的铟锡氧化物薄膜作为掩膜，干法刻蚀衬底，形成表面凹凸的衬底表面；使用铟锡氧化物腐蚀液，去除衬底上残存的铟锡氧化物薄膜，形成图形化的衬底。本发明具有生产效率高，成本低的优点，且适合于制造微小图形化衬底。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110455873.8

专利申请（专利权）人：映瑞光电科技（上海）有限公司

专利发明（设计）人：于洪波;肖德元;程蒙召;张汝京

主权项：一种图形化衬底的制作方法，包括以下步骤：提供一衬底；在衬底上沉积铟锡氧化物薄膜；使用铟锡氧化物腐蚀液对铟锡氧化物薄膜进行湿法刻蚀，以在衬底表面形成不连续的铟锡氧化物薄膜；将上述不连续的铟锡氧化物薄膜作为掩膜，干法刻蚀衬底，形成表面凹凸的衬底表面；使用铟锡氧化物腐蚀液，去除衬底上残存的铟锡氧化物薄膜，形成图形化的衬底。

专利地区：上海