光盘镀膜控制方法专利登记公告

专利名称：光盘镀膜控制方法

摘要：本发明公开了一种光盘镀膜控制方法，包括如下步骤：a)将基片与靶材相对平行放置于真空腔中；b)抽真空至2×10-4mbar；c)通入氩气，真空压力控制在3×10-3至8×10-3mbar；d)用500-800V的直流高压使氩气电离；e)电离形成的等离子沿着磁场轨迹轰击靶材，使得靶材表面组分以原子团或分子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面形成薄膜；f)在溅镀阴极外加装电磁线圈用以改变磁场的强度和空间分布，从而改变高能离子在空间上的区间分布；重复步骤e)和f)直至形成均匀的镀膜层。本发明提供的光盘镀膜控制方

专利类型：发明专利

专利号：CN201110457047.7

专利申请（专利权）人：浙江华虹光电集团有限公司

专利发明（设计）人：唐翔;黄灏

主权项：一种光盘镀膜控制方法，其特征在于，包括如下步骤：a)将基片与靶材相对平行放置于真空腔中；b)抽真空至2×10?4mbar；c)通入氩气，真空压力控制在3×10?3至8×10?3mbar；d)用500?800V的直流高压使氩气电离；e)电离形成的等离子沿着磁场轨迹轰击靶材，使得靶材表面组分以原子团或分子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面形成薄膜；f)在溅镀阴极外加装电磁线圈，在电磁线圈中通以受控的电流，用以改变磁场的强度和空间分布，从而改变高能离子在空间上的区间分布；重复步骤e)和f)直至形成均匀的镀膜

专利地区：浙江